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詳細說明：
CVD系統特點：
KM-CVD-1200-I-S單溫區微型CVD系統管式爐是一款小型化學氣相沉積薄膜類制備設備，該設備在常規產品上進行了一系列的改進，包括：供氣系統集成、真空系統集成等。體現出體積小、操作方便、智能化程度高等特點。
1、雙層空氣冷卻鋼殼保持爐表面溫度低于60°C；
2、高純狀氧化鋁纖維絕緣層，最大限度節約能源；
3、爐膛和加熱元件上的特殊耐火涂層可延長爐子的使用壽命；
CVD系統參數：
| 項目 型號 | KM-CVD-1200-I-S |
| 爐管尺寸 | Φ60×1000mm （Φ30/50/80/100mm可選） |
| 最高溫度 | 1150℃ |
| 工作溫度 | 1100℃ |
| 推薦升溫速率 | ≤10℃/min |
| 加熱區長度 | 440mm |
| 功率 | 3KW |
| 電壓 | 單相AC220V, 50Hz |
| 溫控系統 | K型熱電偶 集成式觸摸屏控制 |
| 控溫精度 | ±1 ℃ |
| 密封系統 | 爐管兩端配有快開式密封法蘭 |
| 外形尺寸 | 620mm(L) ×420mm(W) × 580mm(H) |
| 氣體量程 | 100～1000SCCM |
| 氣路數量 | 2～4路（MFC） |
| 氣路工作溫度 | 5～45℃ |
| VRD-8 | 最大承載量：1000Lbs；抽氣速率:10m³/h； 極限真空度：10-1Pa |
| 真空度 | 雙極旋片機械泵：極限10^-1Pa 分子泵機組：極限10^-3 Pa |
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