詳細說明:
CVD系統特點:
KM-CVD-1200-I-S單溫區微型CVD系統管式爐是一款小型化學氣相沉積薄膜類制備設備,該設備在常規產品上進行了一系列的改進,包括:供氣系統集成、真空系統集成等。體現出體積小、操作方便、智能化程度高等特點。
1、雙層空氣冷卻鋼殼保持爐表面溫度低于60°C;
2、高純狀氧化鋁纖維絕緣層,最大限度節約能源;
3、爐膛和加熱元件上的特殊耐火涂層可延長爐子的使用壽命;
CVD系統參數:
項目 型號 | KM-CVD-1200-I-S |
爐管尺寸 | Φ60×1000mm (Φ30/50/80/100mm可選) |
最高溫度 | 1150℃ |
工作溫度 | 1100℃ |
推薦升溫速率 | ≤10℃/min |
加熱區長度 | 440mm |
功率 | 3KW |
電壓 | 單相AC220V, 50Hz |
溫控系統 | K型熱電偶 集成式觸摸屏控制 |
控溫精度 | ±1 ℃ |
密封系統 | 爐管兩端配有快開式密封法蘭 |
外形尺寸 | 620mm(L) ×420mm(W) × 580mm(H) |
氣體量程 | 100~1000SCCM |
氣路數量 | 2~4路(MFC) |
氣路工作溫度 | 5~45℃ |
VRD-8 | 最大承載量:1000Lbs;抽氣速率:10m³/h; 極限真空度:10-1Pa |
真空度 | 雙極旋片機械泵:極限10^-1Pa 分子泵機組:極限10^-3 Pa |
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